成功案例Success Cases
在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學的管理促進企業(yè)迅速發(fā)展2025年12月24日,泰國新能源電池廠項目圓滿落地!賽默飛離子色譜AXP+Inuvion(配7.3.2變色龍)、賽默飛新款I(lǐng)CPMS型號:iCAP MSX 300(搭Qtegra Software)及卡爾費休852Titrando水分測定儀,安裝調(diào)試培訓全完成~ 精準攻克半導體與鋰電NMP項目檢測需求,超痕量陰陽離子、16種重金屬及痕量水分皆能高效捕獲!感恩客戶信賴,譜標科技將持續(xù)以專業(yè)儀器方案賦能新能源產(chǎn)業(yè),共赴高質(zhì)量發(fā)展~

賽默飛離子色譜 AXP + Inuvion(配 Chromeleon 7.3.2)、賽默飛 iCAP MSX 300 ICP-MS(搭 Qtegra 軟件),以及 Metrohm 852 Titrando 卡爾費休水分測定儀,確實在半導體和鋰電行業(yè)對 NMP(N-甲基吡咯烷酮)等高純?nèi)軇┑臋z測中具有很強的技術(shù)優(yōu)勢。以下是對它們?nèi)绾尉珳使タ讼嚓P(guān)檢測需求的簡要分析:
1. 賽默飛離子色譜 AXP + Inuvion(Chromeleon 7.3.2)
應(yīng)用方向:超痕量陰/陽離子分析(如 F?、Cl?、NO??、SO?2?、Na?、K?、NH?? 等)
技術(shù)亮點:
AXP 高壓泵:提供穩(wěn)定流速與低脈動,適合高靈敏度檢測;
Inuvion 抑制器:新一代電解自再生抑制技術(shù),背景電導低、信噪比高;
Chromeleon 7.3.2 軟件:支持合規(guī)性(21 CFR Part 11)、自動化方法開發(fā)與數(shù)據(jù)審計追蹤;
在 NMP 檢測中的價值:
可檢測 ppb 級甚至 ppt 級離子雜質(zhì),滿足半導體級 NMP 對金屬離子和鹵素離子的嚴苛要求。


2. 賽默飛 iCAP MSX 300 ICP-MS(Qtegra 軟件)
應(yīng)用方向:16 種及以上重金屬元素(如 Fe、Cu、Zn、Ni、Cr、Pb、As 等)的超痕量分析
技術(shù)亮點:
三錐接口 + 高效離子傳輸:提升靈敏度與穩(wěn)定性;
碰撞/反應(yīng)池(CRC)技術(shù):有效消除多原子干擾(如 ArO? 對 Fe 的干擾);
Qtegra 軟件:專為 ICP-MS 設(shè)計,支持智能調(diào)諧、批量處理與合規(guī)報告;
在 NMP 檢測中的價值:
檢出限可達 ppt 級,滿足半導體和動力電池對 NMP 中金屬雜質(zhì)的極限控制(通常要求 <1 ppb)。


3. Metrohm 852 Titrando 卡爾費休水分測定儀
應(yīng)用方向:NMP 中痕量水分測定(典型要求:≤50 ppm,應(yīng)用 ≤10 ppm)
技術(shù)亮點:
雙鉑針死停終點法或永停法,結(jié)合庫侖/容量法靈活選擇;
全自動滴定 + 智能干燥保護,避免環(huán)境水分干擾;
高精度微量進樣與密封系統(tǒng),確保結(jié)果重現(xiàn)性;
在 NMP 檢測中的價值:
可精確測定 1–100 ppm 級水分,對鋰電生產(chǎn)中 NMP 回收液或新液的水分控制至關(guān)重要(水分過高會導致 SEI 膜不穩(wěn)定、電池性能下降)。

綜合優(yōu)勢(針對半導體 & 鋰電 NMP 項目):

? 結(jié)論:
這套組合方案能夠高效、精準、合規(guī)地覆蓋半導體與鋰電行業(yè)中對 NMP 溶劑的全維度質(zhì)量控制需求,尤其適用于高純化學品供應(yīng)商、電池材料廠及晶圓制造前道工藝的質(zhì)量實驗室。
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